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浅析我国稀土抛光粉种类及特性

中国报告网讯:

中国基础有机化工原料市场运营格局及竞争策略研究报告(2012-2016)

中国化学药市场运营分析与竞争策略研究报告(2012-2016)

      文章导读:抛光时间长,颗粒形状和硬 度均匀,抛光表面均一,纯度高,因而抛出的表面均一,无缺陷,无杂质污染,适用于高速抛光,精密光学仪器器件、光学镜头、半导体元件、液晶显示器等高性能 元件抛光。

      1 稀土抛光粉的种类

      稀土抛光粉的主要成分是CeO2,辅之以氟化物、铁、石英等杂质,根据生产工艺特点及其中CeO2含量可将铈基抛光粉分为三大类。第一类常用的制备工艺是 使稀土富集物在固态下发生化学变化,从而转化成机械和化学性能均稳定的化合物。稀土氧化物含量为40% ~ 70%,含铈量在30% ~ 65%,粒度为1 ~ 4 um。这种稀土抛光粉价格相对便宜,切削力高,应用较广,主要用于阴极射线管、平板玻璃和镜片的抛光。

      第二类铈基抛光粉是用化学沉淀法生产的,所得稀土沉淀经煅烧成为稳定的氧化物。稀土氧化物含量为80% ~ 100%,含铈量在40% ~ 80%,粒度为0. 5 ~ 4 um。这类稀土抛光粉的优点是成分均一,颗粒的尺寸和形状一致性好,但价格相对较高,主要用于光学玻璃光掩膜和液晶显示屏的抛光。

      第三类是高铈抛光粉,用化学沉淀法生产的,所得稀土沉淀经煅烧成为稳定的氧化物。稀土氧化物含量大于90%,含铈量大于99%。抛光时间长,颗粒形状和硬 度均匀,抛光表面均一,纯度高,因而抛出的表面均一,无缺陷,无杂质污染,适用于高速抛光,精密光学仪器器件、光学镜头、半导体元件、液晶显示器等高性能 元件抛光。

      2 稀土抛光粉的技术特性

      对于一定组份和加工工艺的稀土抛光粉而言,稀土抛光粉的颗粒大小直接决定了抛光速率与所能达到的光洁度; 颗粒平均尺寸越大,则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大,因此,各类玻璃的抛光对抛光粉粒度要求有一定差异性,如平板玻璃和彩电玻壳的表面光洁度要求不高,所 用抛光粉粒度要求可以大些( 1 ~ 4 um) ,而光学玻璃抛光所需抛光粉粒度要求就严些,一般要求粒度分布为亚微米级。若用聚氨酯高速抛光,对粒度和悬浮性要求更严,但不是越细越好,而是细而均匀。 若粒度细,悬浮性好,则往往是切削力变差。因此,为了得到性能最佳的稀土抛光粉,必须寻求粒度、切削力和悬浮性之间的最佳匹配,确定最佳工艺技术条件,达 到三者结合。另外,稀土中氧化铈纯度和非稀土杂质含量也影响稀土抛光粉性能,氧化铈含量使抛光效率增加。

      稀土抛光粉中,最有害的杂质是机械杂质和稀土抛光粉中个别过硬的粒子,可能造成机械损伤,从而在表面上产生划痕,这些杂质包括工艺设备中的金属离子,或来自煅烧时过大的氧化物凝聚体。

      分级技术的应用也成为近年来生产稀土抛光粉的一项关键技术,尤其是生产高性能稀土抛光粉的关键技术,主要是控制稀土抛光粉的粒度。

 

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