薄膜制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。PVD 技术指在真空条件下采用物理方法，将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。
PVD 技术已成为主流，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料，称为溅射靶材。
溅射靶材主要由靶坯、背板(或背管)等部分构成，种类颇多。其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成薄膜材料；由于溅射靶材需要安装在专用的设备内完成溅射过程，设备内部为高电压、高真空的工作环境，多数靶坯的材质较软或者高脆性，不适合直接安装在设备内使用，因此，需与背板(或背管)绑定，背板(或背管)主要起到固定溅射靶材的作用，且具备良好的导电、导热性能。靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，不仅使用量大，而且靶材质量的好坏对金属薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是磁控溅射过程的关键材料。
参考观研天下发布《2018-2023年中国溅射靶材行业市场发展现状调查与发展商机分析研究报告》
溅射镀膜技术被公认为起源于 1842 年 Grove 在实验室发现的阴极溅射现象，具有可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用。因此，溅射靶材这一具有高附加值的功能材料， 在巨大市场需求的拉动下已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料，全球各靶材厂商正在不断探索和完善靶材制备技术，研发新的高品质溅射靶材。
图表：薄膜制备技术分类
图表来源：公开资料整理
PVD 技术已成为主流，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料，称为溅射靶材。
图表：溅射镀膜工作原理
图表来源：公开资料整理
溅射靶材主要由靶坯、背板(或背管)等部分构成，种类颇多。其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成薄膜材料；由于溅射靶材需要安装在专用的设备内完成溅射过程，设备内部为高电压、高真空的工作环境，多数靶坯的材质较软或者高脆性，不适合直接安装在设备内使用，因此，需与背板(或背管)绑定，背板(或背管)主要起到固定溅射靶材的作用，且具备良好的导电、导热性能。靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，不仅使用量大，而且靶材质量的好坏对金属薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是磁控溅射过程的关键材料。
参考观研天下发布《2018-2023年中国溅射靶材行业市场发展现状调查与发展商机分析研究报告》
图表：溅射靶材分类
图表来源：公开资料整理
溅射镀膜技术被公认为起源于 1842 年 Grove 在实验室发现的阴极溅射现象，具有可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用。因此，溅射靶材这一具有高附加值的功能材料， 在巨大市场需求的拉动下已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料，全球各靶材厂商正在不断探索和完善靶材制备技术，研发新的高品质溅射靶材。
图表：溅射镀膜技术发展历程
图表来源：公开资料整理
图表：部分溅射靶材产品
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