一、玻璃薄化技术水平
FPD 光电玻璃薄化技术分为物理研磨薄化技术和化学蚀刻薄化技术。
化学蚀刻薄化技术是利用氢氟酸化学溶液（HF）与玻璃基板表面的二氧化硅进行化学反应而使其溶解的原理，对面板进行咬蚀而将玻璃厚度变薄。现有化学蚀刻薄化方式主要有四种，分别是多片直立浸泡式、单片水喷洒平式、单片直立喷洒式、瀑布流式，四种化学蚀刻薄化方式各有优缺点且在实际生产中都有所应用，其图示及主要优缺点如下：
图表：化学蚀刻薄化技术优缺点
图表来源：公开资料整理
物理研磨薄化技术主要指机械设备抛光方式，通过使用抛光粉加纯水形成抛光液的加工介质，在一定的压力下流经机台盛盘与面板之间，借机台运转做相对运动，使硬质磨粒直接接触面板表面进而切削面板表面厚度。本制程利用此原理做短时间抛光以削减表面伤痕，将面板表面品质最佳化。
图表：物理研磨薄化方式
图表来源：公开资料整理
图表：化学蚀刻与物理研磨两种 FPD 光电玻璃薄化技术优缺点
图表来源：公开资料整理
物理研磨薄化方式对液晶面板进行薄化处理虽然可行，但由于需要薄化的通常为大张基板，物理研磨方式显然不符合要求。通常，物理研磨薄化技术为化学蚀刻薄化技术的补充，在面板经过化学蚀刻后产生表面划伤时，再使用此方式。目前，玻璃薄化主要以化学蚀刻为主，辅以物理研磨的方式对蚀刻后的玻璃表面进行修复。
参考观研天下发布《2018年中国玻璃市场分析报告-行业深度分析与发展趋势预测》
二、镀膜技术水平
1、ITO 镀膜
国际上 ITO 镀膜技术主要有平面磁控溅射技术、化学气相沉积技术、真空蒸镀技术、卷绕镀膜技术等技术类型。化学气相沉积技术主要应用于制造半导体产品中的薄膜材料；真空蒸镀主要用于光学薄膜的镀制；卷绕镀膜技术主要应用于在聚对苯二甲酸类塑料、橡胶等柔性基板材料上的镀膜。比较而言，平面磁控溅射技术的工艺控制性好、技术成熟、可靠性高，并可在大面积的玻璃基板上均匀成膜，因此，该工艺在 FPD 光电玻璃上的镀膜应用 为广泛，国际上工业化生产 ITO 导电玻璃大多采用此工艺。
2、On-Cell 镀膜
On-Cell 属于嵌入式触摸屏的一种，是指将触摸屏嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间的方法，即在液晶面板上配触摸传感器，三星、日立、LG 等厂商在 On-Cell 结构触摸屏上进展较快。
由于 On-Cell 结构触摸屏只需在彩色滤光片基板和偏光板之间形成简单的透明电极图案等，因此容易确保成品率，同时像素内的有效显示区域的面积也不会减小，几乎不会由此发生画质劣化现象。
On-Cell 触控一体化技术得到普及，就无需再使用外置的触摸面板部件。制造触摸面板的厂商很有可能从原来的外置触摸面板厂商转型为液晶面板和彩色滤光片厂商。产品厂商从触摸面板厂商手中采购外置部件的原供应链也将有所改变，也将为公司带来 On-Cell 镀膜市场的新机遇。
3、In-Cell 抗干扰高阻镀膜
In-Cell 也属于嵌入式触摸屏的一种，它是将触控线路置于液晶显示器内部液晶像素之中，形成显示与触摸一体的液晶面板，原本外置的触摸面板部件与液晶面板实现一体化，实现了面板的薄型化和轻量化。另外，在将触摸面板外置于液晶的原方式中，液晶和触摸面板之间存在物理空间，因此，在液晶面板的上面和触摸面板的下面之间会反射外来光线等，导致在室外等明亮的环境下的可视性降低，外置的触摸面板部件实现一体化后，便可抑制在室外等的可视性降低现象。
In-Cell 抗干扰高阻镀膜技术属于公司首创技术，是一种替代偏光片式抗干扰防静电的新技术，与业内原有技术相比，公司此项技术特点系直接在液晶显示器内部玻璃基板的表面镀膜形成，所需技术、材料一般也无需依赖进口，相较而言，本公司 In-Cell 抗干扰高阻镀膜较原有方式加工更简单、成本更低。
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